Intel mở ra chương mới trong sản xuất Chip bằng việc ứng dụng công nghệ High NA EUV

Vào ngày 19/4/2024, Intel Foundry đã đánh dấu một bước tiến quan trọng bằng việc hoàn thiện máy quang khắc High NA EUV đầu tiên trong ngành, được lắp đặt tại nhà máy ở Hillsboro, Oregon. Sản phẩm này, phát triển bởi ASML – công ty hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc, đang trong quá trình hiệu chuẩn và sẽ sớm được đưa vào sản xuất. Các tính năng nổi bật của máy bao gồm khả năng cải thiện độ phân giải và chính xác hơn trong việc sản xuất vi mạch.

Mark Phillips, chuyên gia của Intel và Giám đốc mảng Quang khắc, Phần cứng và Giải pháp tại Intel Foundry Logic Technology Development, nhấn mạnh rằng việc áp dụng công nghệ High NA EUV sẽ giúp Intel phát triển các tiến trình sản xuất vượt trội trong tương lai. Công nghệ High NA EUV sẽ là chìa khóa cho sự phát triển của các chip tiên tiến và sẽ tăng cường khả năng sản xuất của Intel Foundry, giúp công ty tiếp tục dẫn đầu trong lĩnh vực sản xuất vi xử lý, thúc đẩy tiến bộ trong AI và các công nghệ mới.

Một ví dụ khác về tiến bộ trong công nghệ High NA EUV là sự phát triển của ASML tại Hà Lan, nơi họ đã thành công trong việc tạo ra các đường mạch chỉ 10 nanomet đầu tiên, thiết lập một kỷ lục mới về độ phân giải.

Sự phối hợp của Intel với các tiến trình tiên tiến khác của Intel Foundry cũng giúp tăng mật độ bóng bán dẫn và thu nhỏ kích thước các vi mạch, đồng thời tối ưu hóa chi phí và hiệu năng sản xuất. Intel dự kiến sẽ áp dụng công nghệ này vào sản xuất tiến trình Intel 14A sau khi đã thử nghiệm trên tiến trình Intel 18A vào năm 2025.

Trong nhiều thập kỷ, Intel đã làm việc chặt chẽ với ASML để thúc đẩy phát triển công nghệ quang khắc, từ 193nm đến EUV và nay là High NA EUV, đưa Intel vào kỷ nguyên mới của công nghệ sản xuất bán dẫn.